Stickstoffreinigungsskid: Erzielung ultrahoher Reinheit für kritische Herstellungsprozesse

Stickstoffreinigungsskid: Erreichen von Ultra-Hochreinheit für kritische Herstellungsprozesse

Für Industrien, in denen selbst geringste Verunreinigungen die Produktqualität beeinträchtigen können – wie z. B. die Halbleiterherstellung, spezifische chemische Prozesse oder die Herstellung von Glasfasern – ist die Standard-PSA-Reinheit oft unzureichend. Unser Stickstoffreinigungsskid ist die kritische Sekundärstufeneinheit, die handelsüblichen Stickstoff, der typischerweise von einem PSA-System erzeugt wird, nimmt und dessen Reinheit auf Werte von 99,9999 % (sechs Neunen) und darüber hinaus erhöht, während gleichzeitig Restverunreinigungen wie Wasserstoff, Kohlenmonoxid und Wasserdampf entfernt werden.

Der Reinigungsskid verwendet ein ausgeklügeltes katalytisches und Adsorptionsverfahren. Stickstoffgas vom Primärgenerator wird zuerst erhitzt und über einen Katalysator geleitet, in Gegenwart einer geringen Menge Wasserstoff (der typischerweise extern zugeführt wird). Diese katalytische Reaktion wandelt Restsauerstoff in Wasserdampf um. Das Gas wird dann durch ein Zwillings-Turm-Trocknungssystem geleitet, wo der neu gebildete Wasserdampf zusammen mit anderen Spurenverunreinigungen durch spezielle Trockenmittel und Molekularsiebe sorgfältig entfernt wird. Der gesamte Prozess ist auf einem kompakten, integrierten Skid untergebracht, komplett mit allen notwendigen Instrumenten, Ventilen und einem SPS-Steuerungssystem für vollautomatischen, kontinuierlichen Betrieb. Dieser zweistufige Ansatz – Erzeugung gefolgt von Reinigung – ist deutlich energieeffizienter, als zu versuchen, Ultra-Hochreinheit ausschließlich durch einen Hochfluss-Hochdruck-PSA-Prozess zu erzeugen. Unser Stickstoffreinigungsskid stellt sicher, dass Ihre empfindlichsten und einsatzkritischsten Anwendungen Gasreinheit erhalten, die nicht verhandelbar ist, hochwertige Produkte schützt und die Einhaltung der strengsten internationalen Qualitätsstandards gewährleistet.