Wasserstoffreinigungsanlage - 99,9999% Ultrahochrein-H2-System mit 50-500 Nm³/h Kapazität und katalytischer Deoxygenierung

Dieses Wasserstoff-Reinigungssystem produziert hochreinen Wasserstoff mit einer Reinheit von 99,9999% durch eine vollständige Reinigungsstrecke aus Deoxygenierung, Adsorptionstrocknung und Präzisionsfiltration. Ideal für Elektronik-, Halbleiter-, Metallurgie- und Laboranwendungen, die kontaminationsfreien Wasserstoffgas benötigen.

Rohes Wasserstoffgas tritt in einen katalytischen Deoxygenierungsreaktor ein, wo sich restlicher Sauerstoff mit Wasserstoff zu Wasser verbindet. Das Gas durchläuft dann Adsorptionstrockner mit Zwillingskolonnen zur Tiefentfeuchtung, gefolgt von hocheffizienten Staubfiltern, die Wasserstoff mit einer Reinheit von 99,9999% und einem Sauerstoffgehalt unter 1 ppm liefern.

• Ultra-Hochreine Ausgabe: 99,9999% H2 mit O2-Gehalt unter 1 ppm
• Vollständige Reinigungsstrecke: Deoxygenierung, Trocknung und Filtration in einem Skid integriert
• Kontinuierlicher Betrieb: automatische Zwillingskolonnenregeneration ohne Abschaltung
• SPS + HMI-Steuerung: Online-Reinheitsanalysator mit Alarmverriegelung
• Kompaktes Skid-Design: geringer Platzbedarf, schnelle Installation und einfache Wartung

Elektronik- und Halbleiterfertigung, metallurgisches Glühen, Glasglockenproduktion, Labor-Gasversorgung und Brennstoffzellenprüfung.

Kundenspezifische Kapazität und Reinheit verfügbar. Kontaktieren Sie uns für einen kostenlosen technischen Vorschlag.